ASML公司作为目前世界上市场占有率最高的光刻机生产厂家，它的前身是荷兰电子巨头飞利浦的光刻设备研发部门。
曾在1973年成功研发出了新型光刻设备（PAS2000的原型），在整体性能研发方面取得一定成功，但由于成本高昂，且存在一系列技术问题，未能最终推出。
同时，由于其他设备商在解决接触式光刻机的缺陷问题上用不同的技术路径取得了突破，飞利浦一度计划要关停光刻设备研发部门。
不过，随后另一家半导体设备厂商ASMI希望与飞利浦合作开发生产光刻机，于是在1984年，双方分别出资约210万美元成立了ASML公司。
在当时的光刻机市场，ASML公司也还只是一个无名小卒。
当时市场主要被美国GCA和日本的尼康所占据，二者分别占据了约30%的市场，Ultratech占比约10%，剩下的市场则被Eaton、PE、佳能、日立等厂商瓜分，不过他们的份额均不到5%。
1990年左右，ASML公司推出PAS5500系列光刻机，这一设计超前的8英寸光刻机，其采用了模块化设计的光刻系统，可以在同一平台上生产多代先进IC。
PAS5500不仅为ASML公司带来台积电、三星和现代等关键客户，凭借PAS5500的优势持续获得客户的认可，也为ASML公司带来了市占率的持续提升和丰厚的盈利。到1994年时，ASML公司在全球光刻机市场的市占率已经提升至18%。
一切的转折点，始于ASML公司在浸没式光刻技术上的成功，这让它一举击败尼康等头部光刻机厂商，成为全球光刻机市场的龙头老大。
在2000年之前，光刻设备中一直采用的是干式光刻技术，直到2002年，时任台积电研发副总的林本坚博士提出了浸没式光刻机的设想，这一方案若能够成功，便能够解决光刻机光源波长迟迟无法越过193nm的业界难题。
为此，林本坚找了许多半导体巨头，希望能够合作，其中便有当时光刻机最大的厂商——尼康。
但是，尼康拒绝了他，毕竟当时正是各个光刻机厂家竞争的关键时刻，尼康不敢去尝试新方案，新方案一旦失败，便会让尼康错过发展良机从而被美国公司超越。
最终，ASML公司选择与台积电合作，从而成功的研发出了新型的光刻机。
得益于193nm浸没式光刻机系统在市场大获成功，成为全球领先光刻机厂商之后，ASML公司很快又投入了全新的EUV光刻机的研发。
在2010年，ASML公司首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100，从而开启EUV光刻系统的新时代。
但是EUV光刻机的研发不仅耗资巨大，即使研发成功，其单价也是高的惊人（单台售价超过1亿美元），仅有少数晶圆制造商能够负担的起，并且他们之前推出的概念机，有太多的不足之处，根本无法用于实际的生产，也导致了目前大部分的厂商，对于EUV光刻机的未来并不看好，这给ASML公司带来了巨大的压力。
这也是这一次ASML公司会主动提出来寻求合作厂商投资入股的主要原因。
不过陈威廉知道，许多事情都不会像表面上看起来那么简单，就像是ASML公司的崛起，背后就有着美利坚的支持，其实就是美利坚同日本，在芯片领域竞争的结果。
即便是没有ASML公司，美利坚也会想办法扶持别的公司来与以尼康、佳能为代表的日系厂商竞争。
只不过是尼康等日系厂商在其中犯了极大的错误，因为研究方向的原因，被ASML公司所超越。
在上个世纪八十年代之前，美系和日系厂商在芯片行业还有来有往，甚至最早美利坚公司还占据上风。
但到了80年代，日本在光刻机领域形成了垄断地位，仅尼康一家企业便独占50%的市场，佳能则次之。
那个时候，美利坚本土光刻机公司在日本企业的打击之下，已经没有发展的希望。
因此，美利坚希望能够扶持他国光刻机企业，而尼康等日本公司显然不是一个好的选择，美国可不想养虎为患。
于是后来，美利坚集结的全球顶尖的科技力量，成立EUV LLC联盟来攻克极紫外光（EUV）光刻机技术。
而ASML公司则抓住了这次机会，做出了诸多许诺与让步，成功加入EUV LCC联盟，接触到了EUV光刻技术。
事实上，到了现在，ASML公司的背后，本来就已经有许多的华尔街资本在其中。
陈威廉立刻就让助理联系欧亚半导体集团的CEO费利佩·泽特，告诉他，立刻调查一下ASML公司现在那个融资计划的情况，并且同对方联系，欧亚半导体集团可以全数拿出资金，来支持对方的研发。
对于陈威廉的要求，虽然费利佩·泽特个人还是有些不理解，毕竟目前大家的共识，是EUV光刻机的研究，实在是风险太大，普遍不看好。
但既然是大BOSS的要求，他依然立刻表示，会马上按照他的吩咐去做。
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