28纳米光刻机。
28纳米已经是目前炎国国内光刻机的顶尖水平。
在目前全球光刻机市场中，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供应商，他们占据了全球99%的市场份额。
佳能和尼康主要生产22纳米的“低端”DUV光刻机，而ASML大部分产品都是更高端的EUV光刻机。
DUV和EUV实际区别就是光源，DUV指“深紫外线”，EUV指“极深紫外线”，听名字就能感觉到EUV技术更加牛逼。
确实也是如此，DUV光刻机的光源波长为193纳米，EUV光源波长为13.5纳米，而且EUV光源并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来的。
在光源波长越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波长为193纳米的DUV光源一般只能实现25纳米制程，I凭借工作台模式做到了10纳米，但后续再也无法突破10纳米。
太积电也强行用DUV光源生产过第一代7纳米芯片，但是是通过DUV多重曝光实现的，不但工艺复杂，良品率低，其实上所谓的7纳米还有很大水分，太积电也是在第二代7纳米芯片的时候就全面换成EUV光源了。
也就是说，DUV光源做做28纳米、56纳米的制程还行，但涉及7纳米、5纳米，DUV几乎没戏，只能靠EUV技术。
而现在全球范围内，能生产EUV光刻机的供应商，全球只有ASML一家！
毫不夸张的说，ASML凭借EUV技术彻底垄断了全球中高端光刻机市场，根据最新一年的销售额来看，ASML的光刻机占据91%的市场份额，尼康6%，佳能仅仅3%。
凤凰集团这台产自炎国沪市微电子（SMEE）的28纳米光刻机当然也只是DUV光源，不过哪怕是“低端”的DUV技术，也是非常难得了。
实际上，虽然目前沪市微电子厂已经实现28纳米光刻机量产，但一直受限于产能，每年产能也就两三台，在凤凰集团之前总共只有三家企业拿到了微电子生产的国产28纳米光刻机，凤凰算是在高领资本运作下，才顺利优先拿到28纳米光刻机。
胡来心里已经十分满足。
凤凰即将拥有了属于自己的28纳米光刻机，虽然制程不算太先进，但只要28纳米光刻机能成功安装生产，凤凰半导体就真正成为一家集设计、制造、封装测试到销售的垂直整合半导体公司！
这样的IDM模式无疑对整个凤凰集团的芯片安全都竖起了强力保障！
……
美洲国的消息开始扩散开来。
接下来的时间，网络上因为美洲国撕破脸皮的威胁禁令又一次引发了全民讨论，这一次处于旋涡之中的凤凰集团并没有再次发声。
此时的胡来，已经全身心投入了微电子厂运送过来的28纳米光刻机的安装调试中，等他亲自参与光刻机配套安装项目后才真正体会到光刻机为什么是半导体工业皇冠上的明珠。
沪市微电子厂非常专业，半年前确定了凤凰光刻机订单后，就提前半年通知凤凰集团为光刻机厂房做相应准备。
整个停放光刻机的厂房被特意加固了所有地基，甚至特别的地方还做了悬空处理，这样的目的就是因为光刻机对震动非常敏感，轻微的震动都会引发光源错误，导致一批次的晶圆全部报废。
不仅是地基的稳定性，光刻机生产的厂房所有灯光都有指定要求，不能使用我们平常使用的白光，而是需要使用波长较长的黄色光源。
因为光刻胶对短光非常敏感，所以用长波长的黄色光源的话，对于晶圆制造来说就如同关灯作业，原理就如同冲胶卷曝光一样。
除去这些，光刻机生产厂房还对空气质量有特别高的要求，空气质量需要达到ISO 1级或者2级的水准，这样的空气质量比医用手术室的空气环境要求要干净一万倍……
要达到这样的要求，就必须大量使用先进的全自动化机械操作和高效的风机过滤机组进行24小时无间断的换气和过滤。
除去这些苛刻要求，更让胡来感叹的，还有光刻机高达三万多个零部件和制造光源所需要的强大电力消耗……
不过。
好在沪市微电子厂虽然只是光刻机厂商，但对于光刻机的整套配套还是准备充足。
虽然诸如工厂的风机过滤机组（FFU）和过滤滤芯暂时无法国产，诸如国产光刻胶效果不尽人意等等，但在微电子的私下帮助下，凤凰28纳米光刻机的组装和相关配套还是有条不紊的完成了。
用沪市微电子负责项目的经理话说，第一批配套的设备和材料，微电子厂能想办法暗地里帮忙，但真正等凤凰半导体投入生产后，后续诸如过滤滤芯的更换升级、光刻胶材料的来源就是凤凰自己内部的事情了。
胡来已经非常满意了。
光刻胶再难、风机过滤机组、滤芯再难能难得过光刻机？只要解决了光刻机这个最难的问题，那其他配套都是时间问题！
很快。
由沪市微电子厂提供的28纳米光刻机正式落户凤凰半导体，凤凰半导体也开始了真正拥有生产芯片的能力。
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